接触式掩膜技术缺点太多，不如直接发射一束需要的形状的激光进行光刻。
把 激光上面的全反射膜印成需要的模型，比如现在印个“光”字，激光直接发射一个“光”字型激光，用凸透镜缩小，曝光在晶圆上

小伙子，早点睡明天还要起来搬砖

光不能无限聚焦，下一个

那么粗的激光上哪整

当然，这些器材的加工精度要求肯定非常高，而且工作过程中应该是无人操作，无尘环境

你这个是早期的90年代做印刷，用于手表表面的腐蚀工艺之间的一种工艺，当时的手表精细都是用放大器先在暗房中完成，后来有输出机这种工艺就淡出舞台了。

正好之前做过类似的设备，包括低端光刻机（1微米）左右和激光划线机（0.02毫米），从曝光工艺和激光工艺上边，给你说说两者的区别：
光刻机是靠光源垂直工件固定不动来保证精度，工件固定，每次定位精度就是夹具的弹性变形，而且夹具的弹性变形其实不需要考虑，一次曝光不仅是曝光出电路，还有后期的切割线、定位靶标，只要母板精度够用，靶标与电路的距离永远是固定的，后续切割并不需要这么高的精度。
激光发射的光束，靠运动部件带动激光头行走来实现划线。
首先它不可能无限聚焦，而且受距离变化焦距变化大，也就是说带动激光头行走的部件（龙门或手臂）与放置工件的工作台要足够的平行且平面度要足够的好，不能磨损，单说平行度，我们能够实现的平行度，1米平台5微米平行度差不多是极限，足够影响激光焦点放大一倍了。
第二激光是靠高温溶化材料实现划线的，由此引发两个问题：划线粗细受速度和温度影响非常大，速度变低激光的光斑马上变大，激光温度变化也会影响划线粗细精度。实际上现有高精度激光全部都是脉冲式的，也就是打出来一个个圆点组成一条线，再连成面，划线速度慢，粗细保证不了，划线快会出现线连不起来中间有短路情况。
第三就是精度，精度分两方面、运动精度和震动精度。震动精度大家都能想出来，我只说运动精度，目前以人类能做到的运动部件精度，最精密的滚珠丝杠或直线电机，能达到±2微米，实际组装效果±3微米，这个是极限，看似可以满足精度要求，实际上是不考虑废品率，一般高精度运动部件都会因为卡滞没走到位产生精度不良，好的情况80%，设备造出来就有80%报废这个没办法解决，另外运动精度划出来的定位线、靶标并非绝对准确，后续检查相当麻烦。
第四是效率，曝光机的工作方式是工件进入，一次曝光大概也就几十秒，然后传输机构再送出来就完事了，激光划线机要不停的运动刻，没个一两个小时搞不定，效率相差几十倍甚至上百倍，哪怕是多台设备同时处理也追不上速度，造成产品成本高，另外多台设备一至性不好。
其实纵观光刻机，道理大家都能想明白，我对光刻机的理解：相对激光来讲工艺方式没有问题，机械精度国内现有技术和材料差不多都能满足，差距在光源和反射（折射）板上，差距有多大呢？民用LED灯珠大部分靠进口，低于400nm波长的灯珠需要国外封装，低于360nm灯珠国内没有任何技术，甚至连波长检测仪表都需要进口，更别说极短波紫外线和垂直光源了，多年之前有幸去过南京第一有机光电参观，只能说我们正在努力，离光刻机需要的光源来差一大截，目前全世界能做到的好像只有尼康跟佳能。反射板更不用说了，从材料到研磨精度都没办法实现。
但是话又说回来，光刻机方面能不能实现弯道超车？答案是肯定的。
给大家讲个真实例子：液晶显示器（包含液晶电视、计算器液晶屏等）行业，从03年的国内零到06年国家推动建设8.5代线，到16年中国京东方一家液晶显示器占全球60%市场份额（其实16年国内还有TCL、长虹……）只用了短短10年的时间。对于我们来说，能花钱搞定的问题都不是问题，要看付出多大代价。

你说得对，不过接触式光刻已经是淘汰很久的技术了，后来发展了接近式，扫描投影，分步重复光刻，到最先进步进扫描式要不你都去了解下

透镜有畸变，还有能量吸收，人家用的都是反射镜，每一次放射都还会损失大量能量呢。

建议先从几何光学开始学习，比如用ZEMAX先设计一下看看激光光斑能不能达到要求的说

老汉我不懂什么技术，但看你们对楼主冷嘲热讽的评论，证明你们素质确实不高

楼主说的对