level 14
芯片制造需要掺杂某些特定的元素,而控制掺杂元素的多少,深度 ,位置都有极高的要求和精度,这个是可以和光刻机相媲美的尖端设备,过去我国要靠进口,这次美中不足的是是只实现了28纳米级别的全谱系的国产化,如果实现3纳米全谱系的国产化,就可以与美国交易EUV的光刻机了
2021年03月17日 08点03分
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level 12
估计现在的目标就是这两年解决28nm纯国产吧?28nm基本上能满足华为除手机以外业务开展了吧?
2021年03月17日 08点03分
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28nm就可以做7nmDUV了,多次曝光,真能做出来还是能用的
2021年03月18日 07点03分