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usanasaty
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中科院苏州纳米所5nm激光光刻研究获进展
观察者网 看到的消息
苏州纳米所张子旸团队基于光热反应机理设计开发了一种新型三层堆叠薄膜结构。在无机钛膜光刻胶上，采用双激光束（波长为405nm）交叠技术 ,通过精确控制能量密度及步长，实现了1/55衍射极限的突破(NA=0.9），达到了最小5nm的特征线宽。
常规聚焦离子束刻写，制备一个纳米狭缝电极需要10到20分钟，而利用文中开发的激光直写技术，可以一小时制备约5×105个纳米狭缝电极，展示了可用于大规模生产的潜力。
研究团队开发的具有完全知识产权的激光直写设备，打破了传统激光直写技术中受体材料为有机光刻胶的限制，可使用多种受体材料，扩展了激光直写的应用场景。具体去观网看配图原文。
2020年07月09日 02点07分
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苏州纳米所张子旸团队基于光热反应机理设计开发了一种新型三层堆叠薄膜结构。在无机钛膜光刻胶上，采用双激光束（波长为405nm）交叠技术 ,通过精确控制能量密度及步长，实现了1/55衍射极限的突破(NA=0.9），达到了最小5nm的特征线宽。
常规聚焦离子束刻写，制备一个纳米狭缝电极需要10到20分钟，而利用文中开发的激光直写技术，可以一小时制备约5×105个纳米狭缝电极，展示了可用于大规模生产的潜力。
研究团队开发的具有完全知识产权的激光直写设备，打破了传统激光直写技术中受体材料为有机光刻胶的限制，可使用多种受体材料，扩展了激光直写的应用场景。具体去观网看配图原文。