1、聚合性能：聚四氟乙烯薄膜由四氟乙烯经自由基聚合而生成。工业上的聚合反应是在大量水存在下搅拌进行的，用以分散反应热，并便于控制温度。聚合一般在40～80℃，3～26千克力/厘米2压力下进行，可用无机的过硫酸盐、有机过氧化物为引发剂，也可以用氧化还原引发体系。每摩尔四氟乙烯聚合时放热171.38kJ。分散聚合须添加全氟型的表面活性剂，例如全氟辛酸或其盐类。
2、力学性能：它的摩擦系数极小，仅为聚乙烯的1/5，这是全氟碳表面的重要特征。又由于氟-碳链分子间作用力极低，所以聚四氟乙烯薄膜具有不粘性。并且聚四氟乙烯薄膜在-196～260℃的较广温度范围内均保持优良的力学性能。
3、膨胀系数：(25～250℃)10～12×10-5/℃。
4、耐辐射性能：聚四氟乙烯薄膜的耐辐射性能较差，受高能辐射后引起降解，高分子的电性能和力学性能均明显下降。
5、介电性能：聚四氟乙烯薄膜在较宽频率范围内的介电常数和介电损耗都很低，而且击穿电压、体积电阻率和耐电弧性都较高。