电镀孔(PTH金属化孔)流程核心:钻孔 + 金属化 + 电镀
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钻孔:按资料钻通孔,孔壁为绝缘基材。
除胶渣 / 凹蚀:去除钻孔高温残留树脂,粗化孔壁,增强铜层附着力。
化学沉铜(活化→沉铜):孔壁吸附钯催化剂,沉积0.3–1μm 薄铜层,使孔壁导电。
全板电镀(一次铜):整板镀铜,孔铜加厚至5–8μm,保证导电与可焊性。
图形转移→图形电镀→蚀刻:做线路与焊盘,孔壁铜层保留并加厚。
阻焊→表面处理:覆盖绿油,孔口露焊盘,可镀锡 / 金 / 银等。
2026年04月25日 03点04分 1
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