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meng君拷打鸣潮一测( 先不说鸣潮制作组知不知道现在的问题,起码meng君自己是知道的,然后meng君表明,战斗系统是最难做的,这是重点。其次,可以骂,输出情绪都没问题,但是别离开,不然以后看不到进步了(乐。 直播里谈到了配音,演出,画面效果,美术风格,人物模型,生态特点。 美术风格是不会改的,整体设定就是这样的,他自己也很喜欢,然后后续地区肯定会出鲜艳的地区。 游戏特点;之前评论和吧里提到的宫商角等设定他们也知道,觉得有意思,但是加大玩家理解难度啥的,可能还在考量中。乐理中和弦等如果能融合游戏玩法会是很有特点的一件事,视觉表现上也会很抓人,他说这是作为一个玩家觉得如果鸣潮要体现特点,那这是他能想到的方向。 抽卡:不敢谈 演出:直播就第一章剧情给出了他的解决方案与现在存在的问题,配音也谈到了 一些细节:他说无音区里边会有人声bgm,但是没看到有玩家和主播发现这个彩蛋,这是引导的失误,没能让玩家发现这个与世界观相联系的细节,而且无音区又是boss战,玩家精力完全不在这里,是个比较难搞的问题 人物模型;相比技测有很大改动,马小芳就是典型,可能官方会根据反馈来制定优先级 还有些细节记不太清楚了,当时我也没录播,另外,明天下午他可能还会直播谈谈问题。 提到了原神和绝区零,他很喜欢水熊的画风,绝区零那么离谱的表现也是花费很多时间打磨的,原神表扬了地图与引导设计,比如进入璃月柳暗花明的感觉以及配套的bgm
Tsmc 5nm Intel 10nm工艺还在苦苦挣扎,tsmc和三星已经开始量产7nm,下一步自然就是5nm,tsmc近日也首次公开了5nm的部分关键指标,看起来不是很乐观。 明年,tsmc的第二代7nm工艺会在部分非关键层面上首次尝试使用EVU极紫外光刻系统,工艺节点从CLN7FF升级为CLN7FF+,号称晶体管密度可因此增加20%,而在同样密度和频率下功耗可降低10%。 Tsmc 5nm(CLN5)将继续使用荷兰ASML Twinscan NXE: 3400 EUV光刻机系统,扩大EUV的使用范围,相比于第一代7nm晶体管密度可猛增80%(相比第二代则是增加50%)。 看起来很厉害,不过能带来的实际频率提升只有15%,而同等密度和频率时功耗也只能降低20%,对比第二代7nm提升就更有限了。 不过tsmc 还提供了一个名为“极低阈值电压”(ELTV)的可选项,号称能将频率提升幅度增加到25%,但未解释具体是如何做到的。 工艺不断演进,但是带来的提升却越来越有限,足以显示半导体技术难度和复杂度的急剧增加,当然也不排除台积电这几年在工艺命名上太任性,不像Intel那么老老实实。 如此有限的提升,不知道能不能吸引客户跟进,毕竟要充分考虑成本的。好消息是tsmc这几代新工艺,大家都是“趋之若鹜”,比如7nm到今年底将有50多款芯片流片,覆盖从高性能到嵌入式各种领域。 目前,tsmcEUV 7nm工艺的基础IP已经完成芯片验证,但是嵌入式FPGA、HBM2、GDDR5等关键模块要到今年底或明年初才能完成,5nm则会在今年7月完成0.5版本,大量IP模块诸如PCI-E 4.0、DDR4、USB 3.1则要等到2019年。 设备方面,tsmc将为5nm开设一座新的晶圆厂Fab 8,引入多台新光刻机,但是目前EUV光刻机的平均日常功率只有145W,部分可以持续几周做到250W,都不足如完全投入商用,预计要到今年晚些时候才能达到300W,仍需进一步改进。 还有EUV光刻掩膜材料的问题,目前极紫外线的通透率只有83%,明年才能超过90%。
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