xkl的四重自对准duv 5nm光刻专利

四重自对准（Quadruple Self-Alignment）是一种半导体制造工艺中的技术，主要用于集成电路制造中的光刻过程。在半导体制造中，精确的对准（alignment）是至关重要的，因为它影响到电路图案的精度和芯片的性能。
传统的光刻对准技术通常是基于芯片上的某些标记（mark）来进行的，这些标记用来指导光刻机的对准系统将掩模（mask）上的图案与硅片上的图案精确对齐。然而，随着集成电路特征尺寸的不断缩小，对准的精度要求也越来越高，传统的对准技术逐渐遇到了精度极限。
四重自对准技术是为了克服这些限制而开发的。它利用某些特殊的化学或物理效应，使得在光刻过程中，图案能够自动对齐，而无需依赖于外部的对准标记。这种技术通常涉及到特殊的材料或者结构设计，能够在加工过程中提供额外的对准信息，从而实现更高的对准精度。
四重自对准技术可以显著提高集成电路制造的精度和良率，有助于生产更高性能、更小尺寸的半导体器件。随着半导体工艺技术的进步，这类高级对准技术变得越来越重要。

实物出来前不能石锤，有专利和能做出来是两回事。

这种工艺专利，至少是小样验证了的，就不知批量的时候有没问题

写的明明白白，5nm

瓜子哥因为xie密被封了，秘密保护法也出来了，在xie密要蹲局子了

[彭博] --华为及其芯片生产伙伴为一种技术含量低但能有效制造先进半导体的方法申请了专利，此举提高了华为突破美国围堵改进芯片生产技术的可能性。

专利中提到了euv的制造成本高，但我也看到过有观点说，duv多重曝光没有成本优势，孰对孰错呢？

专利到量产有非常远的距离，量产到良品率高又有非常远的距离，两个相加，那个时间有点长，至少十年以上

xkl是谁？

😂所以瓜子哥有小号吗？

想想华为也是不容易，什么都得自己搞，不过好处是为整个社会培养了一大批专业人才，这点意义巨大