中科院上海光学精密机械研究所突破重大技术

国内权威期刊《激光与光电子学进展》日前发表由中国科学院上海光学精密机械研究所团队提交的《100 kHz重复频率锡液滴靶研究》一文。
根据该文介绍，锡液滴发生器是激光等离子体型极紫外（LPP-EUV）光刻光源中最重要的核心部件之一。光刻光源要求锡液滴靶具备高重复频率、小直径且稳定性好的特性。该论文展示了上海光机所EUV光源团队近来在液滴发生器方面的研究进展，包括液滴直径、重复频率、间距、位置和稳定性等。
现阶段，该所团队研制的锡液滴发生器实验装置，在100 kHz频率下喷射的锡液滴直径~40 μm，间距~230 μm，工作时长接近5h。锡液滴在10 s短时间内，竖直和水平方向的位置不稳定性分别为2 μm和1 μm左右。

上海光学精密机械研究所突破EUV光刻机极紫外线光源设备技术。为未来的EUV光刻机做了准备。

不过和荷兰🇳🇱ASML公司的设备还有差距，需要花时间赶上

华为在上海青浦区研发中心，已经拥有2万人左右，未来还将继续扩大规模

华为在上海浦东新区研发中心

华为在上海青浦区研发中心（靠近上海淀山湖）

可以可以。半导体是算力的根基，算力将在未来是第三产业的根基，无论是科学计算还是服务机器人、人工智能、虚拟现实都要大量算力。不仅EUV要早日赶上，架构也要发力。

反应不是很好用

这是好事！