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贴吧用户_0C3M9GA
楼主
新人!想求解的问题是在热源项的激发下在金属薄膜中电子
温度
Te(z,t)与晶格温度Tl(z,t)随时间的变化。金属薄膜为100nm(100*10^-9m),时域为0-20ps(20*10^-12s)。方程组如下所示:



参数的话在这里我以金为例,具体见下,说一下初始条件与边界条件:
初始条件:Te(x,0)=Tl(x,0)=300K(室温)
边界条件:

参数:Ce(Te)=67.7*Te(z,t); ke=318; g=2.2*10^16; Cl=2.49*10^6; Qpump=0.30375*10^-9; rpump=15*10^-6; tp=2*10^-14s ,

=16.3*10^-9m
请大佬帮忙看看!
2023年07月31日 07点07分
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温度
Te(z,t)与晶格温度Tl(z,t)随时间的变化。金属薄膜为100nm(100*10^-9m),时域为0-20ps(20*10^-12s)。方程组如下所示:



参数的话在这里我以金为例,具体见下,说一下初始条件与边界条件:初始条件:Te(x,0)=Tl(x,0)=300K(室温)
边界条件:

参数:Ce(Te)=67.7*Te(z,t); ke=318; g=2.2*10^16; Cl=2.49*10^6; Qpump=0.30375*10^-9; rpump=15*10^-6; tp=2*10^-14s ,
=16.3*10^-9m请大佬帮忙看看!