击碎EUV光源壁垒！哈工大传来新消息，国产迎来“芯”曙光

柏柏说科技
02-08 22:20
欧洲人曾自负地说道“即便把制造EUV光刻机的图纸交给我们，以我们的技术也无法生产出光刻机”。哈工大成功击碎极紫外光源壁垒，在长春实验室成功搭建出一套完整的光源设备，迅速打脸欧洲人。

在这里穿插一点，上海微电子的28纳米“浸入式光刻机”将在今年正式下线投产。另外，华为、小米、京东方、南大光电、中芯国际、哈工大等90家国产半导体巨头，组成“全国集成电路电子技术委员会”向国外针对我国实施的半导体封锁计划，发起了猛烈的冲击。这一切都在说明，在自主研发半导体核心技术的道路上，我们并不是“纸上谈兵”。
我是柏柏，90后科技爱好者，今天带大家来看哈工大突破的光源技术壁垒，以及我国在自研芯片道路上的曙光。

在进入正题之前，让我们先简单了解一下什么是EUV光源。目前最先进的光刻机是荷兰阿斯麦的EUV光刻机。与20世纪的干刻式、浸入式光刻机不同，阿斯麦的EUV光刻机采用的是目前最先进的极紫外光束技术。只要是光，就一定会有光源，哈工大突破的光源壁垒就是阿斯麦如今使用的DPP - EUV光源。
EUV光源分为两种，通过紫外线产生方式的不同，分为DPP - EUV光源与LPP - EUV光源。DPP是通过电压中电离子产出的紫外线，进行光源生产。LPP则是通过热传导、激光加热等热力物理学产出紫外线，进行光源生产。通俗来说，DPP靠发电、LPP靠发热。台积电的高耗电问题，就是因为阿斯麦的EUV光刻机所采用的光源是DPP - EUV的原因。

进入正题，科学领域没有投机取巧，所有的成功都是建立在努力的基础上。哈工大突破EUV光源，并不是巧合。哈工大在光刻机领域，尤其是光源领域已经研究了15年。此次哈工大突破DPP - EUV光源对我国半导体发展的意义巨大。

每到国家人民急需时候，哈工大挺身而出，做出重要贡献。

自媒体就是放pi。在长春做的即便成功那也是长光所。哈工在长春有什么实验室？更何况现在根本就没有成功。吹个毛线

长春光机所的事，还有光源是最好突破的，总装和调试才是最难的

12级12级

吹的有点过分了，这个主要是光机所搞

哈工大可调谐（气体）激光技术国家级重点实验，马祖光院士创建的。