大突破!国产5nm刻蚀机通过验证,将用于台积电5nm芯片制造
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大突破!国产5nm刻蚀机通过验证,将用于台积电5nm芯片制造!
芯智讯
·13小时前

近日,台积电对外宣布,将在2019年第二季度进行5nm制程风险试产,预计2020年量产。与此同时,中微半导体也向“上观新闻”透露了一个重磅消息,其自主研发的5nm等离子体刻蚀机经台积电验证,性能优良,将用于全球首条5nm制程生产线。
2018年12月18日 14点12分 1
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坐等中国光刻机有所突破,前段时间新闻说可以做14nm了
2018年12月18日 14点12分 2
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加油
2018年12月18日 14点12分 3
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