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大突破！国产5nm刻蚀机通过验证，将用于台积电5nm芯片制造！
芯智讯
·13小时前

近日，台积电对外宣布，将在2019年第二季度进行5nm制程风险试产，预计2020年量产。与此同时，中微半导体也向“上观新闻”透露了一个重磅消息，其自主研发的5nm等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5nm制程生产线。
2018年12月18日 14点12分
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不是光刻机，是刻蚀机，技术上光刻机是皇上，刻蚀机是宰相，光刻机制造出母版，刻蚀机再复制母版，这是我理解的
2018年12月18日 14点12分
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你理解的没错儿，一个是书法家，一个是把书法家作品刻石碑上的石匠
2018年12月18日 15点12分
这意思还是发挥了咱们一贯擅长的山寨啊？不过也算个突破吧？
2018年12月18日 15点12分
@大道至简而言⚡ 光刻机ASML算是垄断了 尤其是高端领域 英特尔 三星 海力士 TSMC都是用他的产品
2018年12月19日 00点12分
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这么厉害吗？要是真的可***，可惜，听着就有点……
2018年12月18日 14点12分
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![[乖]](/static/emoticons/u4e56.png)
谁给解释解释？