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2018年3月3日，由长春国科精密光学技术有限公司研发团队承担的国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”（以下简称02专项）核心任务—“高NA浸没光学系统关键技术研究”项目在上海通过了任务正式验收。
验收会议由02专项项目实施管理办公室和专项总体组共同组织召开。02专项咨询专家委员会主任马俊如先生任验收会议专家组组长。科技部重大办副巡视员/02专项实施管理办公室副主任邱钢、02专项实施管理办公室主任/上海市科学技术委员会副主任干频、02专项技术总师叶甜春、用户单位代表、项目承担单位代表、项目首席科学家、课题负责人等共计四十余位领导、专家参加了本次验收会议。
验收会1
（任务验收会现场）
验收专家组认为，研发团队针对NA0.75光刻机曝光光学系统的研发需求，突破了复杂照明系统研制、投影物镜光学设计、全频段深亚纳米精度光学加工与镀膜、深亚纳米精度光学元件检测、亚微米精度机械零件加工与检测、投影物镜光机结构/机构设计、投影物镜系统集成与检测装调等系列超精密光学关键技术；成功研制了含有非球面光学元件的NA0.75投影光刻曝光光学系统，并在90nm光刻机整机上获得了满足光刻工艺要求的85nm极限曝光分辨率的成果；研发团队成功开展了面向NA1.35照明系统与物镜系统关键技术研究，为浸没式曝光光学系统研发奠定了良好的技术基础。
杨老师2
（项目首席科学家杨怀江研究员汇报项目执行情况）
项目研发工作共申请发明专利337项（其中国际发明专利26项），授权156项；形成了一支以80后博士/硕士为主体的超过200人的青年创新团队；通过国际采购、对外合作研发及自主攻关，建立了具有国际先进水平的高NA照明系统研发平台、物镜光学系统设计平台、超高精度光学加工平台、超高精度保形光学镀膜平台、超高精度光学检测平台、超高精度机械加工与检测平台、物镜系统光机集成与装调平台。
验收专家组认为，NA0.75投影光刻曝光光学系统的成功研发不仅突破了制约我国高端光刻机发展的核心技术瓶颈，还形成了一支可支撑高端光刻机曝光光学系统可持续发展的青年创新团队；其研发工作全面完成了预定的研究内容，达到了任务合同书规定的技术考核指标要求。验收专家组一致同意项目通过验收。
与会各方领导对项目取得的丰硕成果也给予了充分的肯定和祝贺。02专项技术总师叶甜春表示，曝光光学系统的成功研发证明了光刻机这一大国重器是完全可以由国内自主研发的。他希望这支专注、专业的年轻队伍继续攀登超精密光学事业上的珠穆朗玛峰。
段立峰
（用户代表SMEE公司段立峰博士汇报曝光工艺试验验证情况）
科技部重大办副巡视员/02专项实施管理办公室副主任邱钢表示，光刻机是02专项的标杆，光学系统更是光刻机的标杆，从某种意义上说，也是国家民口重大专项战略任务的标杆。该标杆项目为中国未来创新体系的建设，为我国面向2035年继续实施国家科技重大专项或其他国家重大战略任务做出了非常好的探索和实践。
02专项咨询委主任马俊如先生指出，90nm光刻机曝光光学系统任务的成功完成，证明了我们掌握的是创新的、自主开发的技术，对提振民族精神和增强自主创新自信心具有重要意义，为面向28nm光刻机以及更高水平的光刻机曝光光学系统的研制和生产奠定了非常坚实的技术、装备和团队基础，项目形成的团队、培养的人才和突破的高端技术是国家的宝贵财富。他预祝团队在新的任务中创造新的辉煌。
项目首席科学家/公司总经理杨怀江研究员代表项目研发团队对各级领导、各位专家、项目承担单位及整机单位的支持、指导与帮助表示真诚的感谢。杨怀江研究员表示，项目的完成仅是攀登超精密光学事业高峰、实现我国高端光刻机自主研发和产业化过程中的一个中间节点，团队将继续攻坚克难，全力以赴，不负国家、民族的重托，为我国高端光刻机曝光光学系统产业化的重大战略目标的实现做出贡献。
马俊如
（02专项咨询委主任马俊如先生讲话）
会议要求，研发团队要认真面对在企业平台上开展工作的新挑战，认真总结前期成功的研发经验，积极创建面向市场的产业化研发与生产能力，全力做好28nm节点ArFi光刻机曝光光学系统研制、110nm节点KrF曝光光学系统产品的批量化生产任务，为我国建设具有国际竞争力的高端精密光学企业、实现我国高端光刻机曝光光学系统的产业化奠定基础。
2018年12月08日 02点12分
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验收会议由02专项项目实施管理办公室和专项总体组共同组织召开。02专项咨询专家委员会主任马俊如先生任验收会议专家组组长。科技部重大办副巡视员/02专项实施管理办公室副主任邱钢、02专项实施管理办公室主任/上海市科学技术委员会副主任干频、02专项技术总师叶甜春、用户单位代表、项目承担单位代表、项目首席科学家、课题负责人等共计四十余位领导、专家参加了本次验收会议。
验收会1
（任务验收会现场）
验收专家组认为，研发团队针对NA0.75光刻机曝光光学系统的研发需求，突破了复杂照明系统研制、投影物镜光学设计、全频段深亚纳米精度光学加工与镀膜、深亚纳米精度光学元件检测、亚微米精度机械零件加工与检测、投影物镜光机结构/机构设计、投影物镜系统集成与检测装调等系列超精密光学关键技术；成功研制了含有非球面光学元件的NA0.75投影光刻曝光光学系统，并在90nm光刻机整机上获得了满足光刻工艺要求的85nm极限曝光分辨率的成果；研发团队成功开展了面向NA1.35照明系统与物镜系统关键技术研究，为浸没式曝光光学系统研发奠定了良好的技术基础。
杨老师2
（项目首席科学家杨怀江研究员汇报项目执行情况）
项目研发工作共申请发明专利337项（其中国际发明专利26项），授权156项；形成了一支以80后博士/硕士为主体的超过200人的青年创新团队；通过国际采购、对外合作研发及自主攻关，建立了具有国际先进水平的高NA照明系统研发平台、物镜光学系统设计平台、超高精度光学加工平台、超高精度保形光学镀膜平台、超高精度光学检测平台、超高精度机械加工与检测平台、物镜系统光机集成与装调平台。
验收专家组认为，NA0.75投影光刻曝光光学系统的成功研发不仅突破了制约我国高端光刻机发展的核心技术瓶颈，还形成了一支可支撑高端光刻机曝光光学系统可持续发展的青年创新团队；其研发工作全面完成了预定的研究内容，达到了任务合同书规定的技术考核指标要求。验收专家组一致同意项目通过验收。
与会各方领导对项目取得的丰硕成果也给予了充分的肯定和祝贺。02专项技术总师叶甜春表示，曝光光学系统的成功研发证明了光刻机这一大国重器是完全可以由国内自主研发的。他希望这支专注、专业的年轻队伍继续攀登超精密光学事业上的珠穆朗玛峰。
段立峰
（用户代表SMEE公司段立峰博士汇报曝光工艺试验验证情况）
科技部重大办副巡视员/02专项实施管理办公室副主任邱钢表示，光刻机是02专项的标杆，光学系统更是光刻机的标杆，从某种意义上说，也是国家民口重大专项战略任务的标杆。该标杆项目为中国未来创新体系的建设，为我国面向2035年继续实施国家科技重大专项或其他国家重大战略任务做出了非常好的探索和实践。
02专项咨询委主任马俊如先生指出，90nm光刻机曝光光学系统任务的成功完成，证明了我们掌握的是创新的、自主开发的技术，对提振民族精神和增强自主创新自信心具有重要意义，为面向28nm光刻机以及更高水平的光刻机曝光光学系统的研制和生产奠定了非常坚实的技术、装备和团队基础，项目形成的团队、培养的人才和突破的高端技术是国家的宝贵财富。他预祝团队在新的任务中创造新的辉煌。
项目首席科学家/公司总经理杨怀江研究员代表项目研发团队对各级领导、各位专家、项目承担单位及整机单位的支持、指导与帮助表示真诚的感谢。杨怀江研究员表示，项目的完成仅是攀登超精密光学事业高峰、实现我国高端光刻机自主研发和产业化过程中的一个中间节点，团队将继续攻坚克难，全力以赴，不负国家、民族的重托，为我国高端光刻机曝光光学系统产业化的重大战略目标的实现做出贡献。
马俊如
（02专项咨询委主任马俊如先生讲话）
会议要求，研发团队要认真面对在企业平台上开展工作的新挑战，认真总结前期成功的研发经验，积极创建面向市场的产业化研发与生产能力，全力做好28nm节点ArFi光刻机曝光光学系统研制、110nm节点KrF曝光光学系统产品的批量化生产任务，为我国建设具有国际竞争力的高端精密光学企业、实现我国高端光刻机曝光光学系统的产业化奠定基础。
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