一、 什么是曝光显影工艺？
不同的物质通过对不同波长紫外光的吸收，分子会发生能级跃迁，从基态跃迁至激发态，改变物质化学性能。曝光显影工艺就是指利用物质这一特点，由高精度紫外平行光源通过掩膜版对涂有特定吸收波长的专用油墨进行紫外光照射，然后通过化学去除多余涂层，从而达到图形转印的过程称之为曝光显影工艺。
3D 曲面玻璃利用曝光显影工艺正好可以解决遮蔽油墨不能通过传统印刷的问题，具有精度高，量产性好，良率高等特点。
图：3D CG玻璃白片

精度控制工艺点
由于 3D 曲面 CG 玻璃需要和中框的完美结合，但是 3D 曲面 CG 玻璃本身物理加工又存在难以去除的公差，在进行曝光工艺加工时工艺误差区间被压缩，所以必须对以下几个方面公差进行综合控制：
a) CG成型公差
b) 掩膜板（MASK）成型公差
c) 掩膜版转印图形公差
d) CG与掩膜版定位偏差
e) 光源平行度
在曝光显影工艺中，只有对以上各种公差配合完全掌握，才能简单可靠完美的做出合格产品。

三、曝光显影技术优势
1 、解决 3D 曲面玻璃 ( 包含四面曲 ) 印刷难题；
2 、图形转印技术单层、多层套印精度高；
3 、雾化喷涂确保厚度均一性，提高致密性，降低油墨厚度；
4 、采用图形转印技术，良率较高；
5 、 4-6 寸盖板单制程产能优势明显；
6 、较薄的油墨利于贴合，提高制程整体良率，油墨最薄可以做到2um，不透光。

曝光显影工艺及技术流程
1. 喷涂前清洗 + 等离子表面处理
虽然在前段已经过清洗，但喷涂前盖板表面的洁净度至关重要，故需再次进行清洗和表面处理。一般采用托盘装载方式清洗可以做到15~30片同时加工。

2. 等离子表面处理
等离子处理技术是通过对盖板进行一定的物理化学改性，提高表面附着力，这里主要为了提升油墨的附着力，还能去除表面有机物，达到基材表面彻底洁净。

4. 油墨 预固化
喷涂完成的盖板在高温烤箱进行烘烤，使表面油墨初步固化，提高附着力。

5. 图形曝光方式
根据产品需要的图形制成配套的 MASK( 掩膜版 ) ， MASK 与喷墨后的盖板紧密接触，通过曝光技术，使图形转印到玻璃之上。根据不同油墨的特性以及不同颜色油墨的遮蔽特点，重复以上制程。

6. 图形显影
经过曝光过的盖板进入显影设备，对需要去除的油墨进行化学反应，将不需要留下的地方进行剥离，然后表面清洗和干燥

7. 图形终固化
已经成形的高精度的油墨 3D 盖板，进入终固化定型，即完成整个曝光显影工序。

这个技术的难点在哪里