一个重要的蚀刻剂特性是蚀刻因子或者说是侧蚀程度，在线路上的侧蚀是比底片尺寸窄的部分。有几个传统蚀刻因子表达方式，我们以单边变窄比率除以线路厚度来表示。因此如果一个导体的底部测量值为10mil，而在顶部的宽度为8mil，同时线路的厚度是1.4mil，则单边变窄程度是1mil，此时的因子是1/1.4或者0.7。卡博尔优异的系统经过严谨的制程控制，可以生产底片和线路间一对一的相对关系，这是因为在影像转移中轻微曝光偏折会补偿侧蚀。一个更保守的处理方式是推估没1.4mil金属厚度可能产生的1mil宽度损失，将此因子直接导入补偿。
蚀刻剂溶解金属是透过一个定速率的氧化反应进行，它依据溶液活性和搅拌来控制，依据一些化学方程式来计算和控制。
喷流冲击到导体侧壁会受到悬空光阻遮蔽，这样可以获得比较低的横向蚀刻，因此也会有比较低的侧蚀。近一步避免侧蚀的保护，是来自于蚀刻剂如：氯化铜在第一阶段反应所产生的不溶性副产物。氯化亚铜是微白残留物，他会停滞咋相对平静沿着线路侧壁的区域，这会保护他们降低进一步的攻击，直到槽体提供额外的氯来氧化它成为氯化铜并产生可溶性。