【转】摩尔定律还未死，EUV光刻工艺可用到15年后的1.5nm节点 - 显卡吧

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御坂美琴💖 楼主

半导体制造工艺进入
10nm之后，
难度越来越大，Intel为此多次调整了产品策略，
10nm工艺的产品推迟到今年底，以致于很多人认为摩尔定律将死。推动科技进步的半导体技术
真的会停滞不前吗？
这也不太可能，
7nm工艺节点将开始应用EUV光刻工艺，
研发EUV光刻机的ASML表示EUV工艺将会支持未来15年，
部分客户
已经在讨论2030年的1.5nm工艺路线图了
。

2017年01月21日 14点01分 1

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想送你个柠檬💯

2017年01月21日 14点01分 2

贴吧用户_Q76PGyG

前提坟

2017年01月21日 15点01分

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御坂美琴💖 楼主

此前的报道中我们也解释了
半导体芯片制造过程中，
光刻是非常关键的一步，决定了芯片的技术水平。
目前使用的是
沉浸式光刻工艺，
未来则是EUV（即紫外光刻）工艺。不过
EUV工艺研发实在太
难了，
早在2006年业界就开始联合研发EUV工艺，直到
10年后的今天，
EUV光刻机才开始
小批量生产，
荷兰ASML公司日前在财报中提到
去年底他们售出6台EUV光刻机，
总数达到了
18台，
总价值超过20亿欧元。

2017年01月21日 14点01分 4

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bjvhwkh

叼叼叼

但牙膏厂作风不变

2017年01月21日 14点01分 5

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御坂美琴💖 楼主

今年半导体公司将升级到
10nm节点，不过还是
用不上EUV工艺，
ASML表示在
2018年底到2019年初的7nm工艺节点上，
EUV工艺才会正式启用，那时候
传统的沉浸式光刻工艺也会
遭遇极限。

2017年01月21日 14点01分 7

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御坂美琴💖 楼主

现在半导体公司提到的新一代制程工艺
除了7nm之外，还有5nm、3nm，那么
更远的未来呢？
ASML公司CEO Peter Wennink在接受采访时表示
EUV工艺不仅能降低7nm、5nm的成本，他们还看的更远，
可支撑未来15年，也就是考虑
2030年前后的工艺了，ASML表示已经
有客户在讨论未来的1.5nm工艺路线图了。

2017年01月21日 14点01分 8

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御坂美琴💖 楼主

如ASML所说，EUV工艺未来也会升级，
现在的EUV工艺数值孔径还是0.33，可用两三代工艺，不过去年他们宣布
20亿美元入股卡尔蔡司子公司SMT，
双方将合作开发0.5孔径的EUV工艺，还可以再支撑两三代工艺，不过这样的EUV光刻机要等到
2024年才能问世。

2017年01月21日 14点01分 9