硅片晶圆生产清洗工艺中，使用超声波清洗机有效去除硅片晶圆表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。清洗硅片晶圆同时也采用了： 三套独立的电脑控制机械臂自动化作业；第三代最新技术，全面完善的防酸防腐措施，保护到机器每一个角落 ；独特的硅片干燥前处理技术，保证硅片干燥不留任何水痕 ；成熟的硅片干燥工艺，多种先进技术集于一身 。