我记得现在中芯有条65纳米的线就是大陆的，大陆这方面设备商还不止一家，好几家。中芯现在又45纳米了。
(新闻联播7月6日播出)：国家11个科技重大专项目前进入加速推进期，将带动我国工业水平的全面提升。
65纳米，这是相当于人头发丝千分之一的精度，这样的精度对于芯片来说，意味着可以在指甲盖大小的范围里，集成几千万，甚至是几亿个晶体管，这样，我们做出的电子产品性能就会更好。如今由国家科技重大专项支持的65纳米集成电路制造设备已经进入生产线考核验证。
而这，也成为我国电子企业的“软肋”，难以在国际市场上拥有“话语权”。据统计，我国每年进口集成电路产品超过一千亿美元。“极大规模集成电路”科技重大专项正是剑指集成电路制造的薄弱环节
近日，由微电子所作为合作单位之一承担完成的“90纳米—65纳米极大规模集成电路大生产关键技术研究”获2008年国家科学技术进步奖二等奖。微电子所徐秋霞研究员作为项目主要完成人之一，也荣获该奖项 。
国家863项目“90纳米—65纳米极大规模集成电路大生产关键技术研究”，由北京大学、中芯国际集成电路制造有限公司、浙江大学、西安电子科技大学、中国科学院微电子研究所、清华大学6家单位合作完成。成功开发了90nm大生产核心技术，包括微细加工、Co硅化物浅结、Cu互联／低K、器件模型、光刻模型和版图的可制造性、可靠性分析和评测等技术，并成功地用于12英寸大生产中，建立了开放式的90nmCMOS大生产关键工艺技术平台，使我国成为掌握当前国际最先进集成电路大生产工艺制造技术的少数国家和地区之一，为我国集成电路设计、制造、专用设备和材料技术的研发，提供了一个产学研相结合的技术平台，对我国集成电路产业的发展具有重要意义。该项目曾获2007年教育部科学技术一等奖。
微电子所徐秋霞研究员作为该课题主要完成人之一，圆满完成了该课题中的子课题“70纳米CMOS关键技术及器件研究”的任务，她和她的科研团队在65纳米及以下技术代若干关键技术和新结构器件研发方面（如非平面体硅CMOS FinFET 新器件结构及其集成技术、凹槽平面双栅MOS器件新结构及其制备、叠层栅介质/金属栅工艺及其集成技术）取得多项创新成果，获发明专利授权5项，在《IEEE TED》、《半导体学报》等学术刊物发表论文16篇，国际会议发表论文6篇
海微高精密机械工程有限公司正承担着国家“十五”重大科技专项“100nmArF准分子激光步进扫描投影光刻机”分系统的研制任务。据悉,目前国产 100nm光刻机已进入系统整装阶段,2006年就是中国首台100nm光刻机样机正式亮相之年,上海微高总经理程建瑞表示,这将意味着中国光刻设备技术由“十五”始时落后6代缩小至“十五”末时的3代,到“十一五”结束时,我们的目标是技术上与国际水平相差1代至0.5代。
　　我们把将掩模图形转印到涂有光刻胶的衬底晶片上的设备称为光刻机,半导体制造技术之所以能飞速发展,光刻技术的支撑起到了极为关键的作用,而放眼中国各大生产线上,全是进口光刻机,所以把研制国产光刻机上升到使命层面也不为过。
　　光刻设备的更新换代很快,而其研发周期却很长。因为,光刻机是一个多种复杂技术的集成,而对准和曝光又是光刻工艺中最关键的工序,可在中国着手研制 100nm光刻机时,这两项技术指标却是空白。然而,国际上三大知名光刻机制造商——ASML、Nikon、Canon分辨率为100nm的193nm ArF准分子激光分步扫描投影光刻机却早已在市场销售。所以,程建瑞也不否认,国产100nm光刻机的“敲门砖”效应。由此也看出,做国产光刻机,使命感、紧迫感、勇敢,三者一个都不能少。
　　就使命感而言,程建瑞表示,国家“十五”重大科技专项“100nmArF 准分子激光步进扫描投影光刻机”,是以高端光刻设备的总体设计技术、集成技术和关键单元技术为主攻目标,是我国微电子产业发展规划的重大战略决策,对于形成光刻设备高端产品技术平台,发展我国自主产权的光刻设备产业具有重要意义。


　　国内技术的空白还在其次,国际市场的技术封锁以及大量不确定因素更是难以掌控。程建瑞表示,100nm所用的关键器件、材料国内根本就没有,只能到国际市场去采购,“比如当初100nm的光刻胶,你出再高的价钱,人家就是不理你。值得庆幸的是,经过多方努力我们国际市场采购渠道都已基本打通了。”
　　国产100nm光刻机目前已申请了40多项专利,计划申请100来项。程建瑞认为,选择100nm切入应该是个
正确的
技术决策,因为其研制方法不仅对 100nm光刻机适用,大部分还可以移植到65nm-45nm-32nm甚至22nm节点技术相关的设备开发、器件设计和工艺研究。而最重要的是,通过对 100nm光刻机分系统设计和总体设计集成技术的研发,为国家培养出一大批光刻机技术人才。
　　据程建瑞介绍,100nm光刻机研制项目基础技术人员,由中国电子科技集团45所光刻机业务全部班底加上部分成都光电人员构成,而目前300多人组成的研发队伍完全是公司自我培养成才的。程建瑞说,“国内根本找不到光刻机现成人才,在公司陆续招募来的员工中,只有极少数曾操作过光刻机。”
　　成立于2003年6月的上海微高精密机械有限公司,是由中国电子科技集团45所和上海微电子装备有限公司在上海浦东张江高科技园区成立的合资企业。是目前国内唯一一家提供光刻机和其它晶圆制造前道设备的研制、销售、安装、翻新、备件耗材及技术咨询成套解决方案的公司。
　　上海微高现由45所控股,从1970年开始跟踪、研制光刻机的45所,至今已研制出三代产品。2001年初,45所成功翻新的第一台二手光刻机卖给了北大微电子所。而微高目前经营的二手光刻机翻新业务,就是由45所原班人马构成。据程建瑞介绍,上海微高目前可同时翻新10台光刻机和若干其它黄光区设备、测试设备等,并具备8英寸、0.1μm以上的试验工艺条件。程建瑞表示,上海微高在二手设备市场还会加大开拓力度。“一方面国内市场需求还很大,公司也需要有经营收入。另一方面,经营二手设备业务也是为自主研制的高端光刻机将来实现商业化运作积累经验、培养人才。”
　　也许国产首台100nm光刻机样机很快就会出来,但它毕竟还不是产品。而要达到商用水平的诸多要素——配套加工、可靠的生产工艺、大生产线应用等目前都无从谈起。但若由此推断,国产高端光刻机永无出头之日,恐怕也是有失公允的。据悉,2005年ASML在中国申请了100多项技术专利,而在中国 100nm光刻机研制未获实质性进展前,ASML在中国似乎并不在意此项业务

Zenith-9 系统成为俄签署“西北风”合同的关键因素2011-05-09
[据俄新社2011年5月6日报道] 如果法国代表团同意随舰交付Zenith-9作战信息控制系统，那么俄罗斯将签署“西北风”两栖舰的购买合同。消息来源于俄罗斯国防工业部代表。
“西北风”两栖舰的谈判思路已经比较清晰了，Zenith-9作战信息控制系统被认为是舰上最重要的设备，所以法国千方百计的反对随舰一同交付给俄罗斯。俄罗斯则希望获得最新的技术，坚持获得这套设备，所以法国给出的意见将决定谈判结果。
Zenith-9作战信息控制系统和SIC-21联合指挥控制系统（法国“戴高乐”号航母安装）是购买“西北风”两栖舰协议没能达成的主要原因。俄罗斯国防工业系统代表表示，目前对于SIC-21联合指挥控制系统的随舰交付问题，法国谈判代表团大部分成员的反对情绪已经没有之前强烈。
上述的谈判“争端”应该是不久前俄罗斯彻底更换谈判代表的原因。
两国购买“西北风”两栖舰政府间合同在2011年1月25日签订，但没有确定具体日期和合同费用，以后会由俄罗斯国防出口公司和法国DCNS公司签署系列子合同。俄罗斯国防部前第一副部长弗拉基米尔·波波夫基曾表示，合同费用不少于15亿欧元。
“西北风”两栖舰的排水量21000吨、舰长210米、航速18节、续航力20000海里、人员编制160人，船舷可以容纳450人、13辆主战坦克或者70辆卡车，舰上配有16架直升机。
（中国船舶信息中心 孟光）

又泄了。

国产芯片至今仍然是白裤衩多于红裤衩，还得加油啊

光刻机嘛

电子技术 最后看的还是光刻机 据说 国内有65NM的光刻机了 正在搞45NM的

哪年的新闻了
要是11年才搞出65NM还吹个蛋啊.................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................

求土鳖光刻机 进度 各种求

现在搞出65NM算个蛋啊,别的不说,IBM的POWER 7在10年就有45NM了,现在流行32NM哦.........................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................

搞不出来 废物 搞出来 还是废物
一口气吃个胖子的美分理论无懈可击

中微刻蚀机:半导体产业走向世界的“中国智造”
2011-03-22 09:27:08
新华网上海３月２１日电（记者　张建松）“工欲善其事，必先利其器。”半导体产业的发展离不开装备制造业的支撑。由于技术门槛高，长期以来，世界半导体装备制造的高端关键设备被国外几家大公司所垄断，特别是超高精度的刻蚀设备。
在国家重大科技专项的支持下，中微半导体设备有限公司成功研制生产６５纳米到４０纳米的介质刻蚀机，并成功打入国际市场，改变了世界关键刻蚀设备领域的竞争格局，有力提升了我国半导体产业的国际竞争力。
什么是６５纳米到４０纳米的介质刻蚀机？与老百姓的生活有什么关系呢？
中微半导体设备有限公司董事长兼首席执行官尹志尧博士形象地解释说：“如果将第一次工业**比作‘机械代替人手’的**，除了宏观材料、能源动力外，人类发明了机床、铣床、刨床等关键设备，打造了一个传统的‘宏观加工’工业；６０年前由美国硅谷开始的第二次工业**就是‘电脑代替人脑’的**，微观材料的制造和微观加工是这次**的核心技术，我们开发的刻蚀设备就如同微观加工的机床、铣床、刨床。”
“和‘宏观加工’不同的是，‘微观加工’是在头发丝的几千分之一的尺度上实现的。一台等离子体刻蚀设备一年要加工几十万亿个微观结构，而加工的精确度，均匀性和重复性却必须达到头发丝的几万分之一。”尹志尧解释说。
在日常生活中，几乎所有的现代化电器都离不开芯片。芯片是集成电路（ＩＣ）的载体。看上去往往只有“指甲盖”一样大小的芯片，制造工艺多达数百个步骤，共需要十大类微观加工设备。光刻机、刻蚀机、化学薄膜机是其中最为关键的三个微观加工设备。
小小的芯片由较大的“晶圆”分割而成。中微公司生产的６５纳米到４０纳米介质刻蚀机的加工对象就是一个个看上去像“圆碟子”形状的“晶圆”。
“晶圆的生产加工就好比在这个‘圆碟子’上盖十几层的微观高楼、修建微观高速公路、构筑微观立交桥。”尹志尧形象地比喻说，“首先在‘圆碟子’上铺上一层化学薄膜或金属薄膜，再涂上一层光刻胶，用光刻机曝光并洗相后曝露出需要加工的表面，再用刻蚀机进行雕琢。目前，我们的刻蚀设备在生产线上可以最小加工６５纳米到４０纳米的微观结构。在最新的技术开发中，最小可以刻蚀３２纳米到２８纳米的微观结构。”
由于采用了独特的创新设计，中微半导体刻蚀机既可加工单片“晶圆”，也可以同时加工两片“晶圆”，而国外的高端刻蚀设备只能加工单片“晶圆”。由于中微刻蚀设备具有较强的芯片加工性能、较小的占地面积、较高的产出效率、较低的成本，在与国际最先进的同类设备“正面交锋”中，得到了国际半导体芯片厂的广泛认可。
经过壁垒很高的市场引入期，目前中微刻蚀设备已成功打入国际市场，进入亚洲８家海外客户的生产线，已加工了１５０多万片“晶圆”。在国际一流芯片制造厂商生产线上，大量工艺验证表明，中微产品不仅各项刻蚀性能指标达到国外同类产品的水平，而且同等设备投资的芯片产出效率比国外同类产品高出３０％以上。
经过慎重比较选择，目前亚洲很多芯片厂都选用了中微公司生产的刻蚀设备。国际上领先的芯片生产厂商也已经给中微批量订单，中微很快可以达到上亿美元的年产值。
中微公司研发的等离子体刻蚀机还先后１０余次在中国、美国、欧洲、新加坡等地获得知名奖项。包括２００９年美国旧金山由业界权威杂志国际半导体《Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ》颁发的　“２００９　Ｂｅｓｔ　Ｐｒｏｄｕｃｔ”奖，这是国际上过去三年中唯一的刻蚀设备领域获奖产品。
半导体设备研发和制造涉及到５０多个学科和技术专业领域的交叉配合，投入资金大，研制时间长，仅靠风险投资是远远不够的。“中微作为一家由海外归国人员２００４年创办的公司，在上海市政府的大力支持下，能承担国家重大科技专项，我们感到十分荣幸，也深感责任重大。”尹志尧说，“模仿国外技术，我们虽然可以制作同样的设备，但是远远不够的，也是没有出路的。我们必须通过技术的自主创新，开发出比国际半导体设备技术超前的产品。”
据介绍，中微公司在刻蚀设备生产领域，除了继续开发精度更高的纳米级芯片生产的刻蚀设备外，还正在开发将广泛用于以单晶硅为底物的硅通孔刻蚀设备以及用于半导体照明芯片生产的金属有机化合物沉积设备（ＭＯＣＶＤ），同时积极致力于推动我国半导体设备的部件本土化。
尹志尧说：“国家举办‘十一五’重大科技成就展，并将重大科技成果的背后故事展示在老百姓面前，我感到十分及时，也非常有必要，必将会吸引政府和民间更大的投入，也将会吸引更多的年轻人投身到我国科技创新工作中。”


如果 65 纳米都不弄，直接奔 32 ，大跃进现实吗？

这个是 刻蚀机
和光刻机还是有点区别的

市场啊,你一直落后人家美国两年,
市场上打价格优势么,别到时候又弄得跟那个什么蛋疼银河操作系统一样,只有自己用................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................

造不如买 买不如租?

J13 J9 双发J9 发来贺电
不切实际搞 高标准 可能吗?