柒三莫 柒三莫
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根据现有消息猜测一下这个SSME-EUV光源是否有可行性 1.原理 同步加速器(Synchrotron)中的高能粒子束在拐弯的时候会发射辐射,这个上世纪就发现了。但问题是光谱太广了,99.9%的能量在高能粒子束上,只有0.001%在13.5nm这个窄带上,剩下的光谱都没用,这个能效对于EUV光刻而言无法接受。 之前的SR(同步辐射)和FEL(自由电子)方案通过修改现有的Synchrotron,从而达到了集中输出EUV光束。但是效率依然不够高。日本某个fel光源给出的规模是800MeV 近几年新提出的SSMB则采用了一种微聚束的全相干控制,用激光调制器替换掉传统Synchrotron的微波调制器,把电子团聚集到一个纳米级别的尺度,从而大大提升了能量转化效率,只需要400MeV就满足需求了!2.造价 2008年投入运营的BEPC二期对撞机工程,造价大约是10亿,周长240米,2GeV。而清华SSME方案周长150米,400MeV,有望把造价控制在15亿以内 ASML目前的EUV光刻机的售价是8亿,highNA EUV机台价格高达20亿。相比建造对撞机而言,性价比优势并不明显 3.优势 根据Intel的描述,asml的方案光束功率过小,需要11面反射镜,镀膜工艺极其复杂,而且会受到辐射腔中锡滴的污染,每半年要拆开重新抛光,维护费用和DUVi比极其高昂 而Synchrotron的维护就方便很多。仅使用3面反射镜,加工难度也大大降低了 总而言之,这玩意说不定真的比ASML方案高级!
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