摩尔萧萧 xiao664565
加热带专家
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摩尔机电管路加热系统 加热带定制生产 加热带于半导体制程中，扮演着不可或缺的角色，尤其在WCVD Process,Metal Etch Process, LP-CVD NitrideProcess中，这种极容易产生化学生成物的制程中，更是需要加热带来解决管路阻塞问题。
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氮气加热器（Vortex Hot N2 ）应用场景 一般来说，半导体和LCD工艺中使用Gas(SiH4，PH3，AsH3)的特性上大部分都是盲毒性Gas或危险性Gas。因此，制造过程后排出的有毒Gas必须通过处理装置来减轻及稀释其特性。 通用Gas处理设备一般被称为废Gas处理设备(Scrubber)。有毒Gas到达Scrubber之前产生的副产物By-Product(Powder)，具有粘附性和腐蚀性，长时间使用，By-Product渐渐堵塞管道内部，所造成的压力损失会导致管道内部的Cleaninq主机缩短和Pump Down，同时存在安全事故的危险。HOT N2 SYSTEM将加热后的N2喷射到管道内部，最大限度地抑制管道内部By-Product的生成，降低Pump到Scrubber的堵塞现象，减少设备及管道的Maintenance，提高生产率。 一般HOT N2控制温度为N2实际温度，而非排气管内温度,N2混和排气后温度过低粉尘容易结晶,pm周期过短并使加热夹套耗电。摩尔机电Vortex Hot N2增加加了涡流装置，控制温度为实际排气管内温度,排气温度较传统式高,pm周期可拉长并可使加热夹套省电。
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半导体和面板行业哪些设备需要用到加热马甲？
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